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  • 磁控共濺鍍?cè)O(shè)備
    磁控共濺鍍?cè)O(shè)備

    磁控共濺鍍?cè)O(shè)備是指同時(shí)有兩個(gè)或多個(gè)磁控濺鍍槍，濺鍍於被鍍物上。磁控共濺鍍主要用於-複合金屬或複合材料，通過(guò)分別優(yōu)化每一支磁控濺鍍槍（靶材）的功率來(lái)控制薄膜品質(zhì)，其薄膜厚度取決於濺鍍時(shí)間。

    更新時(shí)間：2024-07-10型號(hào)：訪問(wèn)量：658
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  • 磁控濺鍍
    磁控濺鍍

    磁控濺鍍沉積為一種物理氣相沉積（PVD）方法，通過(guò)從靶材濺鍍出材料，然後沉積至基板上來(lái)形成薄膜。在這種技術(shù)中，大多使用氬氣或氮?dú)獾入x子轟擊靶材，並將基板以適當(dāng)?shù)木嚯x放置在靶材的前面。

    更新時(shí)間：2024-07-10型號(hào)：訪問(wèn)量：504
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