追求合作共贏
Win win for you and me售前售中售后完整的服務體系
誠信經(jīng)營質量保障價格合理服務完善當前位置:首頁 > 產品展示 > > 沉積系統(tǒng) > 批量式電漿輔助氣相沉積設備
簡要描述:批量式電漿輔助氣相沉積設備為一種使用化學氣相沉積技術,可為沉積反應提供能量。與傳統(tǒng)的CVD方法相比,可在較低的溫度下沉積各種薄膜且不會降低薄膜質量。
產品分類
Product Category詳細介紹
品牌 | 其他品牌 | 應用領域 | 環(huán)保,化工,電子/電池 |
---|
批量式電漿輔助氣相沉積設備(Batch Type Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)為一種使用化學氣相沉積技術,可為沉積反應提供能量。與傳統(tǒng)的CVD方法相比,可在較低的溫度下沉積各種薄膜且不會降低薄膜質量。
此系統(tǒng)為專對派瑞林(Parylene)所設計,其腔體內部具有公自轉知特性,並批量式生產。而Parylene薄膜具有高均勻性、高填孔特性、高穿透性…等特性。可應用於光電元件封裝、電路板絕緣…等。
批量式電漿輔助氣相沉積設備參數(shù):
應用領域 | 腔體 |
|
|
配置和優(yōu)點 | 選件 |
|
產品咨詢